原子層沉積系統(tǒng)PICOSUN?- P系列
價 格：詢價
產(chǎn) 地：芬蘭更新時間：2020-09-23 13:49
品 牌：Picosun型 號：PICOSUN?- P系列
狀 態(tài)：正常點擊量：1589
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原子層沉積系統(tǒng)PICOSUN?- P系列ALD技術(shù)可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品，可以覆蓋***
細小的地方，***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無針孔。這使得ALD可以應用于各種行業(yè)里，實現(xiàn)各種表面的保護。ALD薄膜可以附著在各種表面上，例如金屬，玻璃，塑料，乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術(shù)，ALD薄膜可以生長在非常敏感的表面上，例如聚合物薄
膜。
***，Picosun的ALD技術(shù)應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進行
防著色，防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫(yī)療部件上的生物兼容、生物活性涂層。
致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術(shù)挑戰(zhàn)傳統(tǒng)的膜
生長方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領域，ALD層大大提升了部件的質(zhì)量、可靠性及壽命。
產(chǎn)品參數(shù)
| PICOSUN? ALD P-300 Pro技術(shù)參數(shù)(更多產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)參考公司網(wǎng)站） |
| 襯底尺寸和類型 | 最大300mm晶圓/單片
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| 工藝溫度 | 50 - 500 °C
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| 基片傳送選件 | 半自動裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實現(xiàn)
25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM? 300集群系統(tǒng)實現(xiàn)
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| 標準 | SEMI S2認證
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| 前驅(qū)體 | 液態(tài)，固態(tài)，氣態(tài)，臭氧源
等離子體（僅供200mm晶圓使用，最多4路氣體）
前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
6條獨立源管線,最多加載8個前驅(qū)體源（最多12個前驅(qū)體源，加上plasma管路共7根獨立源管線）
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| 重量 | 820 kg
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尺寸(W x H x D)
| 160 cm x 80 cm x 240 cm
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| 選件 | 集群工具，PICOFLOW?擴散增強，N2發(fā)生器，尾氣處理，定制設計，與工廠軟件連接服務。
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| 驗收標準 | 標準設備驗收標準為Al2O3工藝，
其他工藝可具體協(xié)商：其他工藝、應用具體驗收標準如：
--不均勻性
--顆粒物含量
--重金屬污染
--電學性能 |
產(chǎn)品介紹
原子層沉積系統(tǒng)PICOSUN?- P系列ALD技術(shù)可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品，可以覆蓋*** 細小的地方，***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無針孔。這使得ALD可以應用于各種行業(yè)里，實現(xiàn)各種表面的保護。ALD薄膜可以附著在各種表面上，例如金屬，玻璃，塑料，乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術(shù)，ALD薄膜可以生長在非常敏感的表面上，例如聚合物薄 膜。 ***，Picosun的ALD技術(shù)應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進行 防著色，防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫(yī)療部件上的生物兼 容、生物活性涂層。 致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術(shù)挑戰(zhàn)傳統(tǒng)的膜 生長方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領域，ALD層大大提 升了部件的質(zhì)量、可靠性及壽命。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
