蔡司高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SIGMA 500
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 15:21
品 牌：型 號(hào)：SIGMA 500
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2632
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詳細(xì)描述：
品牌：卡爾?蔡司 | 型號(hào)：SIGMA 500 |
制造商：德***卡爾蔡司公司 | 經(jīng)銷商：歐波同有限公司 |
【品牌故事】
世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)----德***蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)，ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)： 臺(tái)靜電式透射電鏡 (1949)
臺(tái)商業(yè)化掃描電鏡 (1965)
臺(tái)數(shù)字化掃描電鏡(1985)
臺(tái)場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(1990)
臺(tái)帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
臺(tái)具有Koehler照明的 200kV 場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)
臺(tái)具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003) CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的設(shè)計(jì)融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動(dòng)的***地位。自成立至今，***直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造*核心的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是全球?yàn)槟峁╂u燈絲掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到全世界廣大用戶的信賴與認(rèn)可。作為全球電鏡標(biāo)準(zhǔn)***的CARL ZEISS將***路領(lǐng)跑高端電鏡市場(chǎng)為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。 |
【總體描述】 蔡司公司*新推出的Sigma 500場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，分辨率超過0.8nm，為您提供分辨率和*佳分析性能科研平臺(tái)。Sigma500專注于***流的EDS幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可以獲取精湛的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會(huì)比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測(cè)器的選擇使Sigma500可以***的匹配您的應(yīng)用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息。 |
【技術(shù)參數(shù)】
分辨率：0.8nm@30kV STEM 、0.8nm @15 kV 、1.4 nm @1kV
放大倍數(shù)：10-1,000,000×
加速電壓：調(diào)整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實(shí)現(xiàn)）
探針電流： 3pA～20nA（100nA選配） 穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h
低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）
樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）
樣品臺(tái)：5軸優(yōu)中心全自動(dòng) X＝130mm Y＝130mm Z＝50mm T＝-4°－70° R＝360°
系統(tǒng)控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng)，可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制
存儲(chǔ)分辨率：32k x 24k pixels 【產(chǎn)品應(yīng)用】 掃描電鏡廣泛用于材料科學(xué)（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體材料與器件、地質(zhì)勘探、病蟲害的防治、災(zāi)害（火災(zāi)、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業(yè)生產(chǎn)中的產(chǎn)品質(zhì)量鑒定及生產(chǎn)工藝控制等。在材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域，進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測(cè)量。 |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
