膜厚測試儀
橢偏儀
應力雙折射儀，能夠快速、***測量雙折射相位差及其空間分布和方向。廣泛應用于玻璃、晶體、聚合物薄膜、鏡片、晶片等質量分析和控制領域。
日本Photonic-lattice公司成立于1996年，以日本東北大學的光子晶體的研究技術為核心，成立的合資公司，尤其是其光子晶體制造技術世界，并由此開發出的測量儀器。
根據應用不同，我們特別開發出5款不同的的膜厚測試儀/橢偏儀，每***款產品各具不同的特點。
PHL緊湊型桌面式橢偏儀 SE-101
型號 | SE-101 |
重復性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
測量速度 | 0.05秒/測量點 |
光源 | 636nm 半導體激光器 |
測量點 | 1mm |
入射角 | 70度 |
測量尺寸 | 4英寸, |
儀器尺寸和重量 | 250x175x218.3mm/4kg |
數據接口 | 千兆以太網（攝像機信號），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
軟件 | SE-View |
湊型桌面式橢偏儀 SE-102
型號 | SE-102 |
重復性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
測量速度 | 0.05秒/測量點 |
光源 | 636nm 半導體激光器 |
測量點 | 1mm |
入射角 | 70度 |
測量尺寸 | 4英寸,1軸自動，2軸手動 |
儀器尺寸和重量 | 300x235x218.3mm/4kg |
數據接口 | 千兆以太網（攝像機信號），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
軟件 | SE-View |
快速映射橢偏儀 ME-110
型號 | ME-110 |
重復性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
測量速度 | 每分鐘1000個點以上 |
光源 | 636nm 半導體激光器 |
測量點 | 0.5mm |
入射角 | 70度 |
測量尺寸 | 6英寸 |
儀器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
數據接口 | 千兆以太網（攝像機信號），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
軟件 | SE-View |
型號 | ME-110 |
重復性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
測量速度 | 每分鐘1000個點以上 |
光源 | 636nm 半導體激光器 |
測量點 | 0.0055-0.5mm |
入射角 | 70度 |
測量尺寸 | 6英寸 |
儀器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
數據接口 | 千兆以太網（攝像機信號），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
軟件 | SE-View |
允許厚度分布的測量，例如，透明電極膜和取向膜與基底玻璃的透明基板
型號 | ME-110-T |
重復性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
測量速度 | 每分鐘1000個點以上 |
光源 | 636nm 半導體激光器 |
測量點 | 0.5mm |
入射角 | 70度 |
測量尺寸 | 6英寸 |
儀器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
數據接口 | 千兆以太網（攝像機信號），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
軟件 | SE-View |
高速，高解析度的表面分布測量
滬公網安備31011502016460號
