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磁控濺射靶材

（可為電子與半導(dǎo)體，平面顯示行業(yè)，建筑與汽車玻璃行業(yè)，薄膜太陽能電池行業(yè)，磁存儲(chǔ)行業(yè)，工具行業(yè)，裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材）

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材，Al靶材，鉻靶材，Cr靶材，銅靶材，Cu靶材，鎳靶材，Ni靶材，硅靶材，S靶材，鍺靶材，Ge靶材，鈮靶材，Nb靶材，鈦鈀材，Ti靶材，銦靶材，In靶材，銀靶材，Ag靶材，錫靶材，Sn靶材，石墨靶材，C靶材，鉭靶材，Ta靶材，鉬靶材，Mo靶材，金靶材，Au靶材，鉿靶材，Hf靶材，錳靶材，Mn靶材，鋯靶材，Zr靶材，鎂靶材，Mg靶材，鋅靶材，Zn靶材，鉛靶材，Pb靶材，銥靶材，Ir靶材，釔靶材，Y靶材，鈰靶材，Ce靶材，鑭靶材，La靶材，鐿靶材，Yb靶材，釓靶材，Gd靶材，鉑靶材，Pt靶材等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材，MgO靶材、氧化釔靶材，Y2O3靶材，氧化鐵靶材，Fe2O3靶材,氧化鎳靶材，Ni2O3靶材，氧化鉻靶材，Cr2O3靶材、氧化鋅靶材，ZnO靶材、硫化鋅靶材，ZnS靶材、硫化鎘靶材，CdS靶材，硫化鉬靶材，MoS2靶材，二氧化硅靶材，SiO2靶材、***氧化硅靶材，SiO靶材、二氧化鋯靶材，ZrO2靶材、五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材、二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材，二硼化鈦靶材，TiB2靶材，二硼化鋯靶材，ZrB2靶材，三氧化鎢靶材，WO3靶材，三氧化二鋁靶材，Al2O3靶材，五氧化二鉭靶材，Ta2O5靶材、氟化鎂靶材，MgF2靶材、硒化鋅靶材，ZnSe靶材、氮化鋁靶材，AlN靶材，氮化硅靶材，Si3N4靶材，氮化硼靶材，BN靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.

備注：CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶材，Ni-V靶材，鎳鉻合金靶材，Ni-Cr靶材，鈦鋁合金靶材，Ti-Al靶材，硅鋁合金靶材，Si-Al靶材，銅銦合金靶材，Cu-In靶材，銅鎵合金靶材，Cu-Ga靶材，銅銦鎵合金靶材，Cu-In –Ga靶材，銅銦鎵硒靶材，Cu-In –Ga-Se靶材，不銹鋼靶材，鋅鋁合金靶材，Zn-Al靶材，鎢鈦靶材，W-Ti靶材，鐵鈷靶材 ，Fe-Co靶材，白銅靶材等高純合金濺射靶材。

備注：CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。