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商品編號：89237

美國Trion反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

價格：詢價

產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36

品牌：型號：Oracle III

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美***Trion Technology
反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng)

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡單的實驗室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。

批量生產(chǎn)用設(shè)備:

Oracle III反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

Oracle III由中央真空傳輸系統(tǒng)(CVT)、真空盒升降機和*多四個工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負載鎖對接，既能夠以生產(chǎn)模式運行，也能夠作為單個系統(tǒng)獨立作業(yè)。 Oracle III是市場上*靈活的系統(tǒng)，既可以為實驗室環(huán)境進行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進行配置(使用真空盒升降機進行基片傳送)。

由于Oracle III *多可容納四個獨立的工藝室，其可以有多種不同的工藝組合，其中包括RIE/ICP (反應(yīng)離子刻蝕機/電感耦合等離子)刻蝕和PECVD 沉積。多個室可以同時工作。鑒于所有工藝室均有真空負載鎖，工藝運行安全且沒有大氣污染。

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美國Trion反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

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